Substrate holder for use in a lithographic apparatus
WO2019115195
Art A1
20. Juni 2019
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., ASML HOLDING N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019115195
- Aktenzeichen
- EP18803709
- Anmeldetag
- 22. November 2018
- Veröffentlichung
- 20. Juni 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20H01L21/687
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML NETHERLANDS B.V.
ASML HOLDING N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
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