Vacuum deposition facility and method for coating a substrate

WO2019116081 Art A1 20. Juni 2019

Anmelder: ARCELORMITTAL 🇱🇺

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019116081
Aktenzeichen
EP17825953
Anmeldetag
14. Dezember 2017
Veröffentlichung
20. Juni 2019
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/24C23C14/56
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ARCELORMITTAL
Land
🇱🇺 Luxemburg
🇱🇺 ArcelorMittal

Luxemburgischer Stahlkonzern und einer der weltweit größten Stahl- und Bergbaukonzerne, entstanden 2006 aus der Fusion von Arcelor und Mittal Steel.

1.284 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen