Electron beam irradiation device and analysis system

WO2019116605 Art A1 20. Juni 2019

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019116605
Aktenzeichen: EP18887744
Anmeldetag: 5. Juni 2018
Veröffentlichung: 20. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G01N27/62G01N23/2251H01J37/16H01J37/18H01J37/20H01J49/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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