Pattern forming method, method for producing transistor and member for pattern formation

WO2019117117 Art A1 20. Juni 2019

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019117117
Aktenzeichen: EP18889247
Anmeldetag: 11. Dezember 2018
Veröffentlichung: 20. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07F7/18G03F7/09G03F7/095G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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