Method of depositing a silicon-containing film on a substrate using organo(halo) siloxane precursors
WO2019118019
Art A1
20. Juni 2019
Anmelder: DOW SILICONES CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019118019
- Aktenzeichen
- EP18773916
- Anmeldetag
- 4. September 2018
- Veröffentlichung
- 20. Juni 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/455C23C16/30C23C16/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- DOW SILICONES CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Dow Corning
US-amerikanischer Hersteller von Silikonen und siliziumbasierten Materialien mit Sitz in Michigan, gegründet 1943 als Joint Venture von Dow Chemical und Corning. Das Unternehmen firmiert heute als Dow Silicones Corporation.
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