Method of depositing a silicon-containing film on a substrate using organo(halo) siloxane precursors

WO2019118019 Art A1 20. Juni 2019

Anmelder: DOW SILICONES CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019118019
Aktenzeichen
EP18773916
Anmeldetag
4. September 2018
Veröffentlichung
20. Juni 2019
Rechtsraum
WO
IPC
C23C16/455C23C16/30C23C16/40
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
DOW SILICONES CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Dow Corning

US-amerikanischer Hersteller von Silikonen und siliziumbasierten Materialien mit Sitz in Michigan, gegründet 1943 als Joint Venture von Dow Chemical und Corning. Das Unternehmen firmiert heute als Dow Silicones Corporation.

2.987 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen