Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, method for manufacturing electronic device, and compound

WO2019123895 Art A1 27. Juni 2019

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019123895
Aktenzeichen: EP18892513
Anmeldetag: 13. November 2018
Veröffentlichung: 27. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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