A metrology apparatus for and a method of determining a characteristic of interest of a structure on a substrate
WO2019129465
Art A1
4. Juli 2019
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019129465
- Aktenzeichen
- EP18811269
- Anmeldetag
- 4. Dezember 2018
- Veröffentlichung
- 4. Juli 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20G01N21/47G01J3/02G01J3/36G01N21/95G01N21/956G03F9/00G01J3/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.