Photosensitive siloxane composition and pattern forming method using the same

WO2019129802 Art A1 4. Juli 2019

Anmelder: MERCK PATENT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019129802
Aktenzeichen: EP18830845
Anmeldetag: 27. Dezember 2018
Veröffentlichung: 4. Juli 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/075G03F7/022G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MERCK PATENT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Merck KGaA

Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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