Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2019130802 Art A1 4. Juli 2019

Anmelder: HOYA CORPORATION, HOYA ELECTRONICS SINGAPORE PTE. LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019130802
Aktenzeichen: EP18897551
Anmeldetag: 31. Oktober 2018
Veröffentlichung: 4. Juli 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32G03F1/54G03F1/74G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: HOYA CORPORATION
HOYA ELECTRONICS SINGAPORE PTE. LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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