Oxide sintered compact, sputtering target and oxide thin film

WO2019131876 Art A1 4. Juli 2019

Anmelder: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019131876
Aktenzeichen: EP18896557
Anmeldetag: 27. Dezember 2018
Veröffentlichung: 4. Juli 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/01C23C14/08H01L21/363H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von