Improved magnetic tunnel junction (mtj) performance by introducing oxidants to methanol with or without noble gas during mtj etch
WO2019133221
Art A2
4. Juli 2019
Anmelder: TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. 🇹🇼
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019133221
- Aktenzeichen
- EP18829629
- Anmeldetag
- 7. Dezember 2018
- Veröffentlichung
- 4. Juli 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L43/08H01L43/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD.
- Land
- 🇹🇼 Taiwan
🇹🇼
Taiwan Semiconductor Manufacturing
Taiwan Semiconductor Manufacturing (TSMC) ist der weltweit größte reine Halbleiter-Auftragsfertiger mit Sitz in Hsinchu, Taiwan. Der weit überwiegende Teil des Patentportfolios betrifft Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Datenspeicherung und Nachrichtentechnik. Anmeldungen laufen durchgehend von 2000 bis 2022.
354 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.