Systems and methods for combined x-ray reflectometry and photoelectron spectroscopy
WO2019136189
Art A1
11. Juli 2019
Anmelder: KLA-TENCOR CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019136189
- Aktenzeichen
- EP19736205
- Anmeldetag
- 4. Januar 2019
- Veröffentlichung
- 11. Juli 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N23/20008G01N21/27G01B15/02G01B15/08G01J3/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-TENCOR CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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Fachgebiete
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