Film thickness measurement device, film thickness measurement method, film thickness measurement program, and recording medium for recording film thickness measurement program
WO2019138614
Art A1
18. Juli 2019
Anmelder: HAMAMATSU PHOTONICS K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019138614
- Aktenzeichen
- EP18899115
- Anmeldetag
- 1. Oktober 2018
- Veröffentlichung
- 18. Juli 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B11/06G01N21/45H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hamamatsu Photonics
Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.
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