Apparatus for tuning discharge performance in a laser chamber

WO2019143433 Art A1 25. Juli 2019

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019143433
Aktenzeichen: EP18901429
Anmeldetag: 17. Dezember 2018
Veröffentlichung: 25. Juli 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/038H01S3/0975H01S3/032

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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