Substrate treatment apparatus

WO2019147097 Art A1 1. August 2019

Anmelder: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019147097
Aktenzeichen
EP19744184
Anmeldetag
29. Januar 2019
Veröffentlichung
1. August 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01J37/32
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Jusung Engineering

Jusung Engineering ist ein südkoreanischer Hersteller von Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleitertechnik, ergänzt durch Metallurgie und Elektronik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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