Spacer Profile Control Using Atomic Layer Deposition in A Multiple Patterning Process

WO2019147583 Art A1 1. August 2019

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019147583
Aktenzeichen: EP19744573
Anmeldetag: 22. Januar 2019
Veröffentlichung: 1. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/311H05H1/46H01J37/32C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von