Method of determining an optimal focus height for a metrology apparatus

WO2019149496 Art A1 8. August 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019149496
Aktenzeichen: EP19700191
Anmeldetag: 10. Januar 2019
Veröffentlichung: 8. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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