Oxide sputtered film, method for manufacturing oxide sputtered film, oxide sintered compact, and transparent resin substrate

WO2019150821 Art A1 8. August 2019

Anmelder: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019150821
Aktenzeichen: EP18904332
Anmeldetag: 20. Dezember 2018
Veröffentlichung: 8. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/08C04B35/457C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Metal Mining

Sumitomo Metal Mining ist ein japanisches Unternehmen des Sumitomo-Konzerns, das Metalle wie Kupfer, Nickel und Gold fördert und verarbeitet sowie Batteriematerialien herstellt.

1.215 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von