Positive-type resist composition, resist film formation method, and laminate production method

WO2019151019 Art A1 8. August 2019

Anmelder: ZEON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019151019
Aktenzeichen: EP19747704
Anmeldetag: 21. Januar 2019
Veröffentlichung: 8. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/004G03F7/20G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ZEON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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