Film-forming composition for semiconductor lithography process, silicon-containing film, and method for forming resist pattern

WO2019151153 Art A1 8. August 2019

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019151153
Aktenzeichen: EP19747163
Anmeldetag: 25. Januar 2019
Veröffentlichung: 8. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/20

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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