Manufacturing method for semiconductor device, and adhesive film

WO2019151260 Art A1 8. August 2019

Anmelder: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019151260
Aktenzeichen
EP19746820
Anmeldetag
29. Januar 2019
Veröffentlichung
8. August 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/52B32B27/00C09J7/30H01L21/301H01L25/065H01L25/07H01L25/18
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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