High-purity polycrystalline silicon sputtering target material, preparation method therefor and use thereof
WO2019153467
Art A1
15. August 2019
Anmelder: DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY, NEW ENERGY MATERIALS AND TECHNOLOGY INSTITUTE CO., QINGDAO BLUE LIGHT NEW MATERIAL CO., LTD. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019153467
- Aktenzeichen
- EP18904806
- Anmeldetag
- 30. März 2018
- Veröffentlichung
- 15. August 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B28/06C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
NEW ENERGY MATERIALS AND TECHNOLOGY INSTITUTE CO.
QINGDAO BLUE LIGHT NEW MATERIAL CO., LTD. - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Dalian University of Technology
Die Dalian University of Technology ist eine chinesische staatliche Universität mit breitem naturwissenschaftlich-technischem Forschungsprofil. Das Portfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Fertigungsverfahren und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2004 bis in die Gegenwart belegt.
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