Verfahren zur Vermessung von Strukturen auf einem Substrat für die Mikrolithographie

WO2019154793 Art A1 15. August 2019

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019154793
Aktenzeichen: EP19704754
Anmeldetag: 5. Februar 2019
Veröffentlichung: 15. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/88G01B9/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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