Substrate treatment device and substrate treatment method

WO2019155978 Art A1 15. August 2019

Anmelder: CANON ANELVA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019155978
Aktenzeichen: EP19751062
Anmeldetag: 31. Januar 2019
Veröffentlichung: 15. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/46H01J37/305H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CANON ANELVA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

421 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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