Composition for cleaning away etching residues and conductive pattern formation method using same
WO2019156407
Art A1
15. August 2019
Anmelder: DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019156407
- Aktenzeichen
- EP19752034
- Anmeldetag
- 28. Januar 2019
- Veröffentlichung
- 15. August 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C11D7/32C11D7/50C11D11/00H01L21/02H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd.
Südkoreanisches Chemieunternehmen, das optische Folien und Materialien für Displays und Touchscreens herstellt. Patente vor allem im Bereich Display- und Folientechnologie.
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