Immersion lens array for the patterning of photoresist by maskless lithography

WO2019157438 Art A1 15. August 2019

Anmelder: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE LELAND STANFORD JUNIO 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019157438
Aktenzeichen: EP19751248
Anmeldetag: 11. Februar 2019
Veröffentlichung: 15. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L31/04G03F7/00G03F7/004G03F7/213G03F7/26H01L31/054

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE LELAND STANFORD JUNIO
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University

Rechtsträger der US-amerikanischen Stanford University in Kalifornien, der als Anmelder der zahlreichen Patente aus der Universitätsforschung fungiert. Schwerpunkte liegen unter anderem in Biotechnologie, Informatik und Materialwissenschaften.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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