Kit, composition for forming underlayer film for imprinting, pattern forming method, and method for producing semiconductor device

WO2019159916 Art A1 22. August 2019

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019159916
Aktenzeichen: EP19754330
Anmeldetag: 13. Februar 2019
Veröffentlichung: 22. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B29C59/02C08F2/48C08G59/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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