Gas management system

WO2019160627 Art A1 22. August 2019

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019160627
Aktenzeichen
EP19754905
Anmeldetag
10. Januar 2019
Veröffentlichung
22. August 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01S3/14H01S3/22H01S3/223H01S3/225G01N21/35G01N21/3504B01D53/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
CYMER, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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