Method for determining a corrected dimensional parameter value relating to a feature formed by a lithographic process and associated apparatuses

WO2019162203 Art A1 29. August 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019162203
Aktenzeichen: EP19705959
Anmeldetag: 15. Februar 2019
Veröffentlichung: 29. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N23/2251H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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