Deep learning for semantic segmentation of pattern

WO2019162204 Art A1 29. August 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019162204
Aktenzeichen: EP19705753
Anmeldetag: 15. Februar 2019
Veröffentlichung: 29. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G06N3/08G06N3/04G06K9/66G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von