Methods for training machine learning model for computation lithography

WO2019162346 Art A1 29. August 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019162346
Aktenzeichen: EP19706604
Anmeldetag: 20. Februar 2019
Veröffentlichung: 29. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G06N20/00G03F1/36G06N3/04G06N3/08G06F17/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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