Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2019163310 Art A1 29. August 2019

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019163310
Aktenzeichen: EP19757316
Anmeldetag: 8. Januar 2019
Veröffentlichung: 29. August 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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