Radiation source, lithographic system and method

WO2019166173 Art A1 6. September 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019166173
Aktenzeichen: EP19701870
Anmeldetag: 30. Januar 2019
Veröffentlichung: 6. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G05B13/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik

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