Method and apparatus for forming a patterned layer of carbon, method of forming a patterned layer of material

WO2019166409 Art A1 6. September 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019166409
Aktenzeichen: EP19706663
Anmeldetag: 26. Februar 2019
Veröffentlichung: 6. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/04C23C16/26C23C16/48C23C16/56

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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