Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, method for producing resin for active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active ray-sensitive or radiation-sensitive film, method for forming pattern, and method for manufacturing electronic device

WO2019167419 Art A1 6. September 2019

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019167419
Aktenzeichen: EP18907701
Anmeldetag: 27. Dezember 2018
Veröffentlichung: 6. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F8/12G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von