Magnetron sputtering cathode and magnetron sputtering devise using same

WO2019167438 Art A1 6. September 2019

Anmelder: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE, JAPAN MAGNETS INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019167438
Aktenzeichen: EP19761674
Anmeldetag: 10. Januar 2019
Veröffentlichung: 6. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE
JAPAN MAGNETS INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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