Cu-Ni Alloy Sputtering Target
WO2019167564
Art A1
6. September 2019
Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019167564
- Aktenzeichen
- EP19760304
- Anmeldetag
- 5. Februar 2019
- Veröffentlichung
- 6. September 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C22C1/04C22C1/05C22C9/06C22C19/03B22F1/00B22F9/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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