Mask blank, phase-shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2019167622 Art A1 6. September 2019

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019167622
Aktenzeichen: EP19759972
Anmeldetag: 13. Februar 2019
Veröffentlichung: 6. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/34G03F7/20H01L21/3065C23C14/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von