Silicon-containing layer-forming composition, and method for producing pattern-equipped substrate which uses same

WO2019167771 Art A1 6. September 2019

Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019167771
Aktenzeichen: EP19760822
Anmeldetag: 21. Februar 2019
Veröffentlichung: 6. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G77/24G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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