Electrostatic chuck with multiple radio frequency meshes to control plasma uniformity

WO2019169102 Art A1 6. September 2019

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019169102
Aktenzeichen: EP19761095
Anmeldetag: 28. Februar 2019
Veröffentlichung: 6. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/683H02N13/00B23Q3/15H05H1/46H01J37/32H01L21/67H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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