Prolonging Optical Element Lifetime in an Euv Lithography System

WO2019170503 Art A1 12. September 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019170503
Aktenzeichen: EP19708475
Anmeldetag: 28. Februar 2019
Veröffentlichung: 12. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B5/08G21K1/06H05G2/00G02B1/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von