Surface treatment composition, method for producing surface treatment composition, surface treatment method and method for producing semiconductor substrate
WO2019171790
Art A1
12. September 2019
Anmelder: FUJIMI INCORPORATED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019171790
- Aktenzeichen
- EP19764900
- Anmeldetag
- 21. Januar 2019
- Veröffentlichung
- 12. September 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304C11D7/22C11D17/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIMI INCORPORATED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujimi
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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Vertreten von
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