Pattern formation method and developer

WO2019171887 Art A1 12. September 2019

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019171887
Aktenzeichen: EP19763257
Anmeldetag: 12. Februar 2019
Veröffentlichung: 12. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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