Deep neural network for ct metal artifact reduction

WO2019173452 Art A1 12. September 2019

Anmelder: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019173452
Aktenzeichen: EP19763226
Anmeldetag: 6. März 2019
Veröffentlichung: 12. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: A61B6/03G06N3/08G06T7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Rensselaer Polytechnic Institute

Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Medizintechnik & Gesundheit Software & Datenverarbeitung

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