Method of handling a mask arrangement, reference substrate for an optical inspection of a mask arrangement, and vacuum deposition system

WO2019174727 Art A1 19. September 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019174727
Aktenzeichen: EP18711897
Anmeldetag: 14. März 2018
Veröffentlichung: 19. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/54H01L21/68H01L51/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von