Verfahren zur Herstellung von Halbleiterscheiben

WO2019175207 Art A1 19. September 2019

Anmelder: SILTRONIC AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019175207
Aktenzeichen
EP19711307
Anmeldetag
13. März 2019
Veröffentlichung
19. September 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/322H01L21/324H01L21/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SILTRONIC AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Siltronic

Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.

375 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen