Mask blank, phase shift mask, and method of manufacturing semiconductor device

WO2019176481 Art A1 19. September 2019

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019176481
Aktenzeichen: EP19766760
Anmeldetag: 20. Februar 2019
Veröffentlichung: 19. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/34C23C14/06H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von