Oxide thin film, and oxide sintered body for sputtering target for producing oxide thin film

WO2019176552 Art A1 19. September 2019

Anmelder: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019176552
Aktenzeichen: EP19766958
Anmeldetag: 28. Februar 2019
Veröffentlichung: 19. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/08C01G33/00C01G39/02C23C14/34H01B5/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von