Filtering during in-situ monitoring of polishing
WO2019177842
Art A1
19. September 2019
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019177842
- Aktenzeichen
- EP19767581
- Anmeldetag
- 6. März 2019
- Veröffentlichung
- 19. September 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304H01L21/3105H01L21/768H01L21/67B24B37/20B24B49/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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