Method for determining curvilinear patterns for patterning device

WO2019179747 Art A1 26. September 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019179747
Aktenzeichen: EP19709417
Anmeldetag: 28. Februar 2019
Veröffentlichung: 26. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F1/70G03F7/20G06F17/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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